在六月初，臺積電舉辦了 2021 年技術研討會，涵蓋了其在工藝節點技術方面的最新發展，旨在為客戶提高效能、成本和能力。在這次活動中，臺積電討論了其在製造中越來越多地使用極紫外 （EUV） 光刻技術，使其能夠縮小到其 3nm 工藝節點，遠遠超過其競爭對手。臺積電還解決了當前圍繞半導體需求的問題，並宣佈正在建設用於先進封裝生產的新工廠。

下面，我們把他們演講的Slide分享如下，讓大家知道這家晶圓代工巨頭的發展方向。