國產7奈米再次取得重大突破,難怪ASML轉變口風了
眼見著中國的晶片製造國產化進展順利,光刻機企業ASML近期就發生了重大的態度變化,它表示它是一家歐洲企業不應完全遵從美國的要求,ASML所在的荷蘭也對此予以支援,ASML還在大舉增加中國的員工數量,宣佈未來3年大幅增加EUV光刻機和DUV光...俄方想打破西方晶片壟斷 要在6年內趕超!可能嗎?
10月22日,俄羅斯媒體引述了一份俄羅斯“下諾夫哥羅德地區發展戰略”的報告,該報告聲稱,位於下諾夫哥羅德的俄羅斯科學院應用物理研究所宣佈要在今後6年中進行晶片研發計劃,到2028年將生產出7奈米的晶片,同時研發出與西方技術相媲美的生產晶片的...荷蘭ASML全年光刻機出售了僅26臺,光刻機有多難造
目前能夠生產光刻機的廠家有中國上海微電子,日本的尼康,佳能,最著名的荷蘭ASML(阿斯麥爾)...光刻與光刻機知識通俗系列介紹(17)超紫外光光刻機及其光源
ASML光刻機的極紫外光源EUV是由Cymer公司專門為其研製的、用體積龐大的二氧化碳鐳射器激發的錫等離子體產生的...北大教授突破晶片瓶頸,清華教授攻克光刻機難題,國產芯未來可期
前有北大教授突破半導體瓶頸,後有清華教授攻克光刻機難題,雖然目前中國在頂級光刻機以及頂級晶片上,距離ASML、高通等國際巨頭尚有上差距,但相信透過科研人的共同努力,國產晶片的未來相信值得大家期待...厲害了我的國!國產5nm光刻技術或將改寫,荷蘭光刻機怕要失望了
相信大家都知道我們國家在晶片方面一直沒有重大突破,所以一直以來都是依靠進口國外的晶片,所以很容易被其他國家壟斷,但是最近我們國家5nm光刻技術或將改寫,而荷蘭的光刻機怕是要失望了,看到這樣的訊息,只想說一句,厲害了我的國...光刻與光刻機知識通俗系列介紹(19)荷蘭ASML光刻機發展史
荷蘭ASML光刻機需要的超過90%的零部件、材料由美國、德國、瑞典、法國等國家近20家企業提供...荷媒:西方人不懂,若不是這位中國人,ASML不可能壟斷全球市
當時ASML就採納了林本堅專家的想法,在製程技術上遙遙領先眾多企業,這才讓其能夠順利發展至今,成為光刻機領域上的霸主...俄羅斯擔不擔心晶片和光刻機的問題?
而目前來看,俄羅斯民用的晶片和光刻機的確不容樂觀,連走出國門的知名大品牌都沒有,就更不用說能夠和國際上其他高等級國家進行較量的品牌了...英特爾只有賭了!而賭的過程卻有可能讓臺積電和ASML聯手給坑了
就算EUV光刻機不是個問題,英特爾在7nm以下追趕臺積電同樣沒什麼指望...ASML已開始行動,中芯國際、臺積電沒想到結果這麼快
再加上,臺積電又給ASML提供了大量的晶片製造技術,以改善光刻機,於是,ASML總是優先給臺積電提供先進光刻機等裝置,七成以上EUV光刻機都出貨了給臺積電...中國EUV光刻機還沒到貨!美媒:荷蘭已扣下出口證,中方作出迴應
近日,有媒體曝出,美國政府一直以來都在向荷蘭施加壓力,要求荷蘭叫停對中國出口光刻機,坐實了美國從中作梗,阻止中國半導體領域的發展...國產晶片又有好訊息,7nm晶片裝置明年下線,晶片自主已經不是夢想
而對於我們來說,低端晶片沒有問題,上海微電子已經公佈訊息,28nm的晶片製造工藝已經完全成熟,可對於中國市場來說,低端晶片根本無法滿足我們的5G發展,智慧汽車等多個產業的發展...ASML的擔憂成真!國產光刻機傳來好訊息,這才是中國速度!
在投入大規模的商用之後,國產光刻機的發展勢必還會提速,從成熟工藝下的裝置開始,光刻機等關鍵晶片生產裝置的自給率也會不斷提升...先進製程量產的“幕後”
為了滿足5nm及更先進製程的需求,臺積電已建立了整合扇出型(InFO)及CoWoS等封測產能支援,完成了3D IC封裝技術研發,包括晶圓堆疊晶圓(WoW)及系統整合單晶片(SoIC)等技術,預計竹南廠將以3D IC封裝及測試產能為主,計劃今...新名單出爐後,臺積電、三星等均沉默了,原因望周知
也正是因為美國本土無法生產製造更先進的製程的晶片,不得不將晶片訂單交給三星、臺積電等企業...美新名單出爐後,臺積電、三星卻“無動於衷”,原因望周知
也正是因為美國本土無法生產製造更先進的製程的晶片,不得不將晶片訂單交給三星、臺積電等企業...為什麼我們買到了ASML光刻機,卻遲遲收不到貨?
公司成立的當年,市場上已經有挺多生產光刻機的公司了,包括日本的尼康、佳能,還有前面飛利浦去找過的美國儀器製造公司鉑金埃爾默...搬石頭砸自己腳?國產芯原材裝置迎來突破,晶片禁令成為笑話!
如今掌握EUV光刻機雙工件臺技術的廠家只有ASML和我國的華卓精科,且此次華卓精科與清華團隊所研製的雙工件臺並非依葫蘆畫瓢的去仿製ASML的技術,整個雙工件臺全由科研團隊自主研發生產,在晶片製程高度、技術水準上比肩ASML...不只是光刻機,C919眾多“核心部件”需從美國進口
在貴陽舉行的2021年第五屆大資料科學與工程國際會議中,工程院院士吳漢明表示,高階EUV光刻機,透過全世界的技術整合,零部件多達十萬左右,價格更是高達上億美元,零部件供應商來自世界多國,多達5000多家,其中美國光源佔27%,日本的材料佔2...