在受到西方晶片強國技術封鎖、斷供等制裁方式後，我國晶片市場明顯受到衝擊，在這樣的情況下，不少無良媒體紛紛唱衰國產芯，但我國晶片真的有那麼不堪嗎？

事實上，一切並非大眾所想的那般悲觀，今天009就跟大家說道說道，近期以來我國晶片行業無人能擋的崛起之勢。

【晶片核心材料獲突破】

在如今晶片自主研發的道路上，除了光刻機受到限制外，在材料、製作等方面我們還是跟不上，

原材料更是時常斷供。

要知道，晶片的製作離不開光刻，甚至可以說是最重要的一個環節，在矽基晶片製造工藝中，

有40%~50%的時間矽片都處於光刻過程中

，然而這個過程不僅需要用到光刻機，還需在矽片上塗一層光刻膠，而

光刻膠的質量則決定了光刻精度。

簡單來說，就算我們擁有了頂尖的EUV光刻機，若是沒有好的光刻膠，那麼我們製作的晶片精度就和古代用的吊錘稱沒有什麼區別，不僅不夠精準還可能缺斤少兩，因此

超高精細光刻膠可以說是半導體工業中最關鍵的材料之一。

然而就是這麼重要的東西，我國只能生產低端光刻膠，高階的則依賴進口，

在全球市場中，美國與日本公司所生產的高階光刻膠以壟斷之勢，佔據市場90%的份額

，我們也因此在自主晶片研發上時常被“卡脖子”。

而在處處受限的情況下，我國科研團隊站了出來，在2019年於濱州建立了光刻膠的研發、生產基地，在耗時兩年的努力下，今年4月科研團隊便傳來喜訊，對外聲稱光刻膠研發成功，並進行交付，

實現了對晶片核心材料的突破，擺脫了以往被“卡脖子”的窘境。

【華為受制裁後國內的變化】

而事實上，科研團隊如此大費周章選擇光刻膠的研發突破，除了不願受限於人外，另一個理由想必大夥都很是清楚，那就是華為受限一事。

在這次的晶片衝擊中，華為不少手機因晶片不足無法生產，其智慧手機市場從國內第一掉到了第三，從以往的國際第二變成了如今的國際第五，哪怕華為在5G爭奪戰中獲得勝利，但其在與國外企業的5G建設合作上卻並不順利，例如遭到德國、義大利取消合作。

為何德意兩國會突然取消與華為的合作呢？

事實上，美方當下正在構建一個“科技聯盟”，意圖在西方國家打造出一個對我們的科技封鎖圈，

德意兩國擔心與華為繼續合作，則會被其他西方科技強國“擠出圈外”，無法共享新的技術，同時他們也擔心老大哥對他們進行“次級制裁”

，因此綜合考量下，他們選擇中止合作。

德意兩國終止合作、美國欲打造科技封鎖圈，種種跡象無不表明西方已露出“獠牙”，而越來越多的國內企業也因此意識到了“自主化”的重要性，從以前的大肆進口，轉身投入於自主研發之中，

而相比華為受到衝擊，國內晶片產業鏈卻愈發壯大，各大廠商態度上的轉變，就是最好的證明。

在以往，即使國產晶片研製裝置符合使用標準，能進行晶片生產，但鮮少有廠商願意給裝置商這個機會，畢竟在價格相差不大的情況下，他們大可購置國外裝置生產，且不用擔心裝置出現意外狀況，可國內裝置不同，

在沒經過長期驗證的情況下，裝置或多或少存在不穩定性，相較之下廠商該如何選擇一目瞭然。

不過隨著國際晶片局勢的變動，

中芯國際、長鑫儲存、長江儲存等本土晶圓廠態度開始發生轉變，為國產裝置提供驗證試用平臺和代替進口產品的機會

，因此當下國內晶片產業，裝置國產化程序不斷加快，不少甚至取得了突破性的成功。

【中微3nm刻蝕機】

近日，國產晶片裝置研發上便傳來了好訊息，在國際各大晶片企業於刻蝕機研發上止步不前時，我國中微公司又一次地獲得突破，

成功研製出3nm刻蝕機，並完成了原型機Alpha的設計、製造、測試及初步工藝開發和評估，使得美方警惕不已。

看到這或許會有人感到疑惑，刻蝕機是什麼？它和光刻機又有什麼區別？它的突破又有何意義？

事實上，刻蝕機的突破對於當下我國晶片自主研發而言，有著不可忽視的重要作用。

刻蝕機與光刻機是晶片製造中兩個不同流程裡所需用到必要的裝置，其中光刻機的工作原理是用光將掩膜版上的電路結構臨時複製在矽片上，而

刻蝕機則是按照光刻機刻出的電路結構，在矽片上進行微觀雕刻，刻出溝槽或接觸孔。

簡單來說，

光刻機就像導航一樣，為蝕刻機指定雕刻路線，蝕刻機只需要按照它規劃的線路圖前進就能完成工作

，毫不誇張地說，光刻機與刻蝕機的效能直接決定了晶片的工藝製程。

當下中微3nm刻蝕機的突破，使得日後國產晶片在精度上會更為準確，同時它的存在也為我國研製出高階晶片增添了一份可能，讓不少人看到了國產晶片崛起的曙光。

不過對此也有部分人存在別樣的看法，聲稱在沒有光刻機的情況下，研發出最頂尖的刻蝕機也毫無作用！但事實真的如此嗎？

【科研團隊再發力】

事實上，除了刻蝕機有所突破外，

在光刻機領域我們也絲毫不差！

前不久清華團隊就與北京華卓精科攜手研製出雙工件臺，獲得技術上的重大突破。

要知道，

光刻機有著三大核心部件：EUV光源、光學鏡頭、雙工件臺，其中製成難度最大、技術壁壘最高的便是雙工件臺

，而此前光刻機的雙工件臺技術一直被ASML死死握在手中。

如今掌握EUV光刻機雙工件臺技術的廠家只有ASML和我國的華卓精科，且此次華卓精科與清華團隊所研製的雙工件臺並非依葫蘆畫瓢的去仿製ASML的技術，

整個雙工件臺全由科研團隊自主研發生產，在晶片製程高度、技術水準上比肩ASML。

這並非009張口就來，如今上海微電子的28nm侵入式光刻機，所沿用的就是華卓精科製造的雙工件臺，

該工件臺在高速執行下理論上符合2nm晶片的製作要求。

既然華卓精科的雙工件臺能在理論上達到2nm級的晶片製程水準，

那是不是意味著我們能研製出2nm晶片？

事實上，一切並非大眾所想的那麼簡單，雙工件臺僅是光刻機的重要部件之一，

若想生產2nm晶片，那麼光刻機的EUV光源以及光學鏡頭等其他部件也需與雙工件臺處於同一水平基準

，因此想單憑華卓精科的雙工件臺，無法成功研製出2nm晶片。

當然，研製不了2nm並不意味著華卓精科的雙工件臺毫無作用，其與上海微電子的28nm侵入式光刻機相互結合，我們完全能做到7nm晶片的自主化生產，不過

前提是不計較能源、勞動、時間成本。

如今想短時間在光刻機方面實現趕超，我們無法做到，不過ASML總裁溫彼得多次在訪談中直言，如果當下西方仍對中國實現技術封鎖，

那麼不出15年，中國就能於光刻機領域實現科技自主。

從溫彼得的話中我們不難得知，自華為受限後，我國科技發展因此受到“刺激”，晶片研製技術更是不斷實現突破，而在這股風氣之下，

不出15年我們便能迎頭趕上西方大國的晶片進度。

當然，國內晶片研發進度加快不僅是技術封鎖影響，更是受到5G風潮的影響。

【5G發展風口】

前段時間，央視對某電子科技企業進行採訪，得知在5G手機方面今年的庫存量相比2020年會下降40%左右，成三年來最低的庫存量。

而原先的產線數量也無法滿足當下的生產需求，各大電子工廠都開始擴充產線，以當下局勢判斷，

預計在今年下半年，產線數量將會成原先的三四倍。

由此我們不難判斷，電子元器件的國產替代化帶來的效果已慢慢顯現出來，之後將會有更多的電子科技企業獲得發展的機會。

綜合來看，無論是原材、還是刻蝕機、亦或是光刻機的雙工件臺，都是我國於晶片製造上的重大突破，雖說當下我們進行自主晶片研發與西方晶片強國仍有不小的差距，

但相信在國內科研團隊的不懈奮鬥下，這些差距終將慢慢縮小！

那麼最後，對於國產晶片的崛起，你又有何別樣的看法？歡迎於評論區中與009進行探討，如若想了解更多，點贊轉發關注，之後由009帶你去看！