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目前能跨入全球先進製程領域的廠商主要是臺積電、三星電子以及英特爾，其中英特爾宣佈重返晶圓代工業務，從今年7月公佈的新的製程與封裝創新藍圖規劃，預計推進到4奈米制程，匯入高數值孔徑（High NA）極紫外光（EUV）微影技術，這也是ASML新...

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9月17日，日本半導體材料製造商JSR株式會社宣佈，將收購總部位於美國俄勒岡州科瓦利斯的Inpria，後者為世界領先的極紫外 （EUV） 光刻金屬氧化物光刻膠設計、開發和製造廠商...

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就算EUV光刻機不是個問題，英特爾在7nm以下追趕臺積電同樣沒什麼指望...

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再加上，臺積電又給ASML提供了大量的晶片製造技術，以改善光刻機，於是，ASML總是優先給臺積電提供先進光刻機等裝置，七成以上EUV光刻機都出貨了給臺積電...

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英特爾技術專家詳述了以下路線圖，其中包含新的節點命名和實現每個製程節點的創新技術：1、基於FinFET電晶體最佳化，Intel 7與英特爾10nm SuperFin相比，每瓦效能將提升約10%-15%...

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”ASML 今年的重大預測：極紫外 （EUV） 光刻技術的增長——製造商尋求支援摩爾定律的關鍵方式之一，英特爾聯合創始人戈登摩爾的觀察變成了行業定律，即電晶體數量領先的部件趨向於大約每兩年翻一番...

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9%，年增 28%，毛利率 50%，季減 2...

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為了滿足5nm及更先進製程的需求，臺積電已建立了整合扇出型（InFO）及CoWoS等封測產能支援，完成了3D IC封裝技術研發，包括晶圓堆疊晶圓（WoW）及系統整合單晶片（SoIC）等技術，預計竹南廠將以3D IC封裝及測試產能為主，計劃今...

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否則建設再製造工廠也就沒有多大用處了，如此一來，韓國晶片巨頭SK海力士，三星電子都會擁有更強的半導體制造實力...

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國產晶片產量創新高，實現14nm晶片量產，但EUV依然未突破...

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在大量EUV光刻機的支援下，臺積電3nm製程研發也在有條不紊的進行...

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而半導體領域的矽晶圓，信越化學工業和SUMCO兩家日本企業佔有全球5成以上的份額...

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TEL 公司董事、高階副總裁兼 SPE 業務部總經理 Yoshinobu Mitano 表示：“TEL 很榮幸在聯合研究實驗室與 imec 和 ASML 合作，以進一步瞭解和解決High NA EUV 在圖案化方面面臨的挑戰...

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因此，這將是 ASP增加的另一個來源 （ASML 指出，儘管 E 型號的 COGS（銷售成本）較高，但毛利率仍會增加，因為它與更昂貴的 > 3 億美元的“High NA EUV” EXE：5000 工具共享一些部件...

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不僅如此，南大光電還表示，自己的ArF光刻膠的相關原材料和生產裝置已 實現國產化 ， 製程工藝 可以滿足45nm-90nm光刻需求，不需要依賴國外，產能是25噸每年...

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外觀方面，結合此前曝光的預告圖來看，新車將採用分體式大燈組，車身側面線條非常的豐富，搭配燻黑式的輪眉與側裙，並加以鍍鉻飾條點綴，充電口布置在左前方位置，並配備造型別致的輪圈，整體看上去非常的圓潤小巧...

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2022年款雪佛蘭Bolt EV和Bolt EUV（稍大尺寸的車型）今天首次亮相，具有更現代的外觀，更新的內飾以及標準車型中最大259英里（416公里）的續航里程...

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外觀方面，新車與全新雪佛蘭Bolt EV車型採用相同的設計語言，前臉採用造型別致的封閉式前格柵，狹長的大燈與霧燈為分體式設計，底部配備大尺寸進氣口...

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4、Bolt EUV將是雪佛蘭首款搭載Super Cruise駕駛輔助系統的車型，官方宣稱該駕駛輔助系統工作時允許駕駛員雙手離開方向盤...

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Bolt EUV車型可以使用120伏或240伏插座充電，後者預計用時7個小時左右可以充滿電...

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