近日，荷蘭光刻機裝置生產商阿斯麥（ASML）公佈了2021年第二季度財報。

財報顯示，阿斯麥公司第二季度的營收達到40億歐元，淨利潤10億歐元，市場預期12。11億歐元。阿斯麥預計第三季度淨營收52億至54億歐元，市場預估為46。9億歐元，阿斯麥還將全年營收增長目標提高約35%。而第二季度的新增訂單金額則達到83億歐元，其中49億歐元來自EUV系統訂單，總計未交貨訂單金額達到175億歐元。

ASML在財報中還披露，第一臺全新TWINSCANNXE：3600DEUV光刻機系統已經交付給客戶，相比之前的NXE：3400C生產力提高了15-20％，覆蓋率（套刻精度）提高了約30％。另外，ASML也正增加EUV在儲存器產業的量產應用，並協助3家DRAM客戶實現在未來的製程節點中匯入EUV的計劃；至於DUV（深紫外光）微影系統業務，ASML的TWINSCANNXT：2000i浸潤式微影系統在客戶端達到單日曝光6，300片晶圓的新紀錄。

ASML總裁暨執行長PeterWennink表示，來自於不同細分市場和對於ASML產品組合的需求仍然很高，主因是市場專注於提高產能以支援數位基礎設施的建設和購置，這同時帶動了市場對於邏輯及儲存器晶片的長期需求，不僅在先進製程節點方面，在成熟製程節點也是。因此，ASML正在努力將裝置產量最大化，目前預計2021年的全年淨銷售額將比2020年成長約35%，預計毛利率在51%至52%之間。